Home Page Home Page
APT(Advanced Plasma Technologies)は、
ダイヤモンドを合成（製造）するための、熱フィラメント兼用プラズマ電極を用いたＶＨＦプラズマＣＶＤ装置を創出しました。
究極のパワー半導体として注目されているダイヤモンド半導体は、従来、マイクロ波プラズマＣＶＤ装置で合成（製造）されていますが、
この装置では、面積が４インチ級基板への対応が困難です。４〜５インチダイヤモンド基板への対応が可能なダイヤモンド合成装置の創出が求められています。
上記熱フィラメント兼用プラズマＣＶＤ装置は、４〜５インチ級ダイヤモンド基板への対応が可能です。下記ｐｄｆ資料をご覧ください。
ダイヤモンド合成用マイクロ波ＣＶＤ装置の特許技術と課題（ＰＤＦ資料）
ダイヤモンド合成用熱フィラメントＣＶＤ装置の特許技術と課題（ＰＤＦ資料）
大面積ダイヤモンド基板に関する特許技術と課題（ＰＤＦ資料）
熱フィラメント兼用プラズマ電極を用いたＶＨＦプラズマＣＶＤ装置（ＰＤＦ資料）
シリコン系薄膜形成のためのプラズマＣＶＤ装置の原理、特徴及び設計・製作における留意事項（ＰＤＦ資料）
大面積ＶＨＦプラズマＣＶＤ装置に関する代表的な特許技術（ＰＤＦ資料）
Ｃａｔ−ＣＶＤ装置の原理と特徴（ＰＤＦ資料）
薄膜形成に用いられる水素プラズマの特性、効用・副作用（ＰＤＦ資料）
ご興味ある方は、どうぞご一報ください。
お問い合わせ・ご質問等 E-mai:apt@ngs2.cncm.ne.jp
APT代表 村田正義
〒８５２−８０２７
長崎市城山台２丁目１０の５
apt@ngs2.cncm.ne.jp
更新日２０２４年１月２８日
|
【大気圧プラズマ殺菌処理装置】 細菌・カビ菌・カビ毒を除去するための迅速・大量処理が可能な大気圧プラズマ殺菌処理装置の実用機を研究中です。 ＡＰＴでは、「ＡＰＴ独自のプラズマ殺菌装置」を創出しました。その概要を次のＰＤＦ資料に示します。ご覧いただければ幸いです。 【１】プラズマ殺菌装置に関するＡＰＴ保有の出願特許、ご紹介（ＰＤＦ資料） 【２】低コスト・大量処理に適したプラズマ殺菌装置に関する出願特許技術：特開２０２０−００６２６１（ＰＤＦ資料） 【３】低コスト・大量処理に適したプラズマ殺菌装置に関する出願特許技術：特開２０１９−２０９１７０（ＰＤＦ資料） ご興味ある方は、どうぞご一報ください。 お問い合わせ・ご質問等 【農産物の細菌・カビ菌・カビ毒を除去するための大気圧プラズマ殺菌処理装置】 種子・コメ・野菜等の農産物、特に、輸入米・輸入野菜を大量に、低コストで、迅速に、ムラ無く、確実に殺菌可能な 大気圧プラズマ殺菌処理装置の実用機の創出を目指して、研究開発中です。ＡＰＴ方式の出願特許を、近々、公開の予定です。 農産物の細菌・カビ菌・カビ毒の現状及びプラズマ殺菌装置の特許技術の代表例を以下に示します。 【０】大気圧プラズマ殺菌処理装置の応用に関する調査及び検討（ＰＤＦ資料） 【１】大気圧プラズマ殺菌処理装置に関する特許技術の調査結果（ＰＤＦ資料） 【２】プラズマ殺菌技術の研究に関する調査結果（ＰＤＦ資料） 【３】大気圧プラズマ殺菌処理装置に関するＡＰＴ保有の出願特許（ＰＤＦ資料） 【４】大気圧プラズマ殺菌処理装置に関する出願特許：特開２０１９−２０９１７０（ＰＤＦ資料） お問い合わせ・ご質問等 APT代表 村田正義 〒８５２−８０２７ 長崎市城山台２丁目１０の５ apt@ngs2.cncm.ne.jp 【ＡＰＴ保有の特許】下記参考資料をご参照ください 大面積ＶＨＦプラズマＣＶＤ装置に関する特許（定在波重畳法／６件） 特許第４２６４９６２号（村田正義） 特許第４５４７７１１号（村田正義） 特許第４０２２６７０号（村田正義） 特許第４０２６１８１号（村田正義） 特許第４１２０８３１号（村田正義） 特許第４２０７１３１号（村田正義） ●APTは、各種プラズマプロセスに関する課題解決へのアイデイア創出等についてのご支援・ご助言に取り組み中です。 ●また、新規応用を目指したプラズマＣＶＤ装置等の研究開発支援・コンサルティング・講演等に積極的に取り組み中です。ご用命・ご活用下さい。 APT代表 村田正義 〒８５２−８０２７ 長崎市城山台２丁目１０の５ apt@ngs2.cncm.ne.jp |
