大面積・均一VHFプラズマCVD装置の開発 ：Ⅱ
Development of VHF
Plasma CVD System for Production of Large-Area Uniform Thin Films : Phase ２
APT１,山口大・工２ ○村田 正義１、大塚 真由美２、福政 修２
Advanced Plasma
Technologies１，Yamaguchi University, Faculty of Engineering２
○Masayoshi Murata１, Mayumi Otsuka2, Osamu Fukumasa２
email apt@ngs2.cncm.ne.jp, URL
http://www1.cncm.ne.jp/~apt/
我々は、Si系薄膜太陽電池及び液晶ＴＶ等の分野における生産性向上（低コスト化）のキー技術の一つとして期待されている「大面積・均一・高速製膜が可能なＶＨＦプラズマＣＶＤ装置」に関し、独自の方法と装置の創出を目指して研究開発を実施中であり、これまでに、従来のＶＨＦプラズマＣＶＤ装置で問題となる定在波の影響を効果的に解消可能なアイデイア（定在波重畳法と呼ぶ）の創出に成功している（１）、（２）。そのアイデイアは、一対の電極間に２つの定在波を発生させ、その２つの定在波のそれぞれの腹の位置を制御することにより、合成定在波の強さの一定化を図るものである。しかしながら、本アイデイアを検証し、実用化していくには、定在波重畳法用の特殊なＶＨＦ電力供給装置の開発が必要であるとともに、アイデイア検証の為のプラズマ生成試験が必要である。
ここでは、試作した定在波重畳法用ＶＨＦ電力供給装置プロトタイプ機の概要及び本試作ＶＨＦ電力供給装置プロトタイプ機を用いた定在波重畳法による水素プラズマ生成実験結果の一部を報告する。
（a）試作ＶＨＦ電力供給装置・・・周波数：２００ＭＨｚ、出力：４００Ｗ、定在波の個数：２個、定在波の制御範囲：１波長程度。
（b）水素プラズマ生成装置 ・・・真空容器内径：３００ｍｍ、電極構造：棒型、圧力：０．７～２．０Ｐａ（５～１５ｍＴｏｒｒ）。
参考文献
（１）村田正義 他：特開2005-123654(2005.1.25).（２）村田正義、福政 修：２００５年春季第５２回応物予稿集No.1,29p-G-1.
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