先進プラズマ技術とは
APTでは、先進プラズマ技術（Advanced Plasma Technologies）を、電源周波数が３０ＭＨｚ−３００ＭＨｚ、即ちVHF（Very
High Frequency）帯域であるプラズマの生成及び応用に関する技術と定義しています。
VHFプラズマが、特に薄膜太陽電池分野で注目されるようになったのは、スイス・ヌシャテル大学での世界初：安定化効率１０％の微結晶Ｓｉ太陽電池製作成功例の発表（１９９４）によると言われています。
VHFプラズマの技術的メリットは、プラズマ密度が高く、かつ電子温度が低いことと言われています。このVHFプラズマのメリットは、薄膜太陽電池やTFT等の製造分野での性能向上・生産性向上等の技術開発の面で、非常に魅力ある特徴であると見られています。
しかしながら、VHFプラズマにより、１ｍｘ１ｍ級大面積基板を対象にした高速・均一・高品質のＳｉ系薄膜製造への応用は、著しく困難と言われています。
何故、大面積VHFプラズマ生成及び応用は困難なのか、その理由としては、電波の波長が電極サイズとほぼ同じレベルになることから、同軸ケーブルや電極等の電力伝播路にて電波の干渉等に起因する定在波が発生しやすくなるということが挙げられています。その結果、電極間の電圧分布が不均一になり、プラズマ密度分布が不均一になるのです。
上記VHFプラズマの応用上の困難性を打破するため、国内外にて、先端的技術を駆使したVHFプラズマの研究が精力的に実施されていますが、５〜１０Torr級以上の高圧力・１ｍｘ１ｍ級以上の大面積基板ではまだ成功例はないようです。
プラズマプロセシング分野では、VHFプラズマ装置仕様を任意に設計・制御できる技術の出現が期待されています。
なお、APTは、上記VHFプラズマの生成及び応用に関する技術的困難性を打破するための、技術的思想（アイデイア）を創出し、その解決を図る技術を提供したいと願っています。
また、APTは、VHFプラズマの生成及び応用に関する特許出願に注力し、お客様がお求めのVHFプラズマ技術に整合したVHFプラズマ技術の特許群を集成したいと願っています。