創業者のプロフィール

創業者：村田正義は、三菱重工業株式会社技術本部長崎研究所にて、レーザホログラフィー等レーザ応用計測技術（昭和４５〜昭和６１年）及び大面積プラズマＣＶＤ装置・ａ−Ｓｉ太陽電池製造装置・プラズマ排ガス処理装置等プラズマ応用技術（昭和６１〜平成１１年）等の研究開発に従事し、数々の新技術創出に貢献してきた（特許出願数：約３３０件）。Ｈ３．１０〜Ｈ７．３：応用物理研究室長、Ｈ７．４：長崎研究所主査、Ｈ８．４：同所主管。

この度、移籍先：長菱エンジニヤリング�梶iＨ１１．１０．１〜Ｈ１５．４．３０）を定年退職したことを契機に、国内半導体産業の国際競争力強化への貢献を願って、個人事業を立ち上げた。

得意とする技術は、プラズマＣＶＤ・エッチング等の製造プロセス分野にて本格的導入が期待されているＶＨＦ（３０−３００ＭＨｚ）プラズマ技術で、特に電極形状・電力損失抑制・定在波制御等に関する技術的思想（アイデイア）の創出力・洞察力が優れていることだと思う。

昭和１７年６月１７日生まれ。１９６８年福井大学工学部応用物理学科卒。
理学博士（九州大学）、応用物理学会・電気学会・発明協会会員。
趣味：ゴルフ、囲碁、音楽鑑賞。

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